Grundlegende und funktionale Eigenschaften ultra-dünner mittels Atomlagenabscheidung hergestellter und mit oberflächenempfindlichen Techniken in-situ charakterisierter Oxidschichten.

Wir führen eine systematische in-situ Untersuchung der grundlegenden und funktionalen Eigenschaften von ALD-Schichten mittels oberflächenempfindlicher Methoden durch. Wir nutzen ALD auf Substraten mit regelmäßig gestuften Oberflächen bei verschiedenen Temperaturen und charakterisieren das Auftreten und das Maß der Oberflächendiffusion mit Hilfe von Rastersondenmikroskopie.

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