Beiträge in Sammelwerken

25."Advanced insights into the stoichiometry and kinetics of the reaction of silicon in HF/HNO3 and HF/HNO3/H2SiF6 mixtures"
A. Rietig, T. Langner, J. Acker
Silicon for the Chemical and Solar Industry XV, Eds.:B. Andresen, H. Rong, M. Tangstad, H. Tveit, I.G. Page, The Norwegian University of Science and Technology, Trondheim, Norway, 2020, 145-159.
24."Lattice strain and phase transformations in silicon introduced by the precipitation of Cu3Si"
A. Meißner, T. Sieber, J. Acker
Silicon for the Chemical and Solar Industry XV, Eds.:B. Andresen, H. Rong, M. Tangstad, H. Tveit, I.G. Page, The Norwegian University of Science and Technology, Trondheim, Norway, 2020, 47-56.
23."Ressourcensicherung durch Recycling von Sekundärrohstoffen"
A. Rietig, J. Acker
Systemwissen für die vernetzte Energie- und Mobilitätswende, Vereinigung für Betriebliche Bildungsforschung e.V.(Hrsg.), Berlin, 2019, S. 170 - 181.
22."The impact of lattice strain on the reactivity of silicon"
J. Acker, T. Sieber, T. Langner, S. Herold
Silicon for the Chemical and Solar Industry XIV, Eds.:B. Andresen, L. Nygaard, H. Rong, M. Tangstad, H. Tveit, I.G. Page, The Norwegian University of Science and Technology, Trondheim, Norway, 2018, 11-20.
21."A new and fast method for determination of boron, phosphorus and other trace elements in metallurgical grade silicon"
A. Rietig, J. Acker
Silicon for the Chemical and Solar Industry XIII, Eds.: L. Nygård, B. Pachaly, I.G. Page, H. Rong, M. Tangstad, H. Tveit, The Norwegian University of Science and Technology, Trondheim, Norway, 2016, 95-106
20."Segregation, grain boundary milling, and chemical leaching for the refinement of metallurgical-grade silicon for photovoltaic application"
J. Acker, J. Ducke, A. Rietig, T. Müller, S. Eisert, B. Reichenbach, W. Löser
Silicon for the Chemical and Solar Industry XII, Eds.: H.A. Øye, H. Brekken, H.M. Rong, M. Tangstad, H. Tveit, The Norwegian University of Science and Technology, Trondheim, Norway, 2014, 177-188
19."Comparison of sawing technique and the resulting acidic texturisation"
B. Meinel, C. Blocks, T. Koschwitz, J. Acker
Proceedings of the 27th European Photovoltaic Solar Energy Conference and Exhibition, 2012, 798-801
18."Mass and electron balance of silicon etching using HF-HNO3 mixtures - The formation of hydrogen and nitrous gases"
J. Acker, M. Steinert, V. Hoffmann, N. Schramm, M. Suckow
Proceedings of the 26th European Photovoltaic Solar Energy Conference and Exhibition, 2011, 1662-1665
17."Etch kinetics and morphological investigation on the horizontal etching process"
B. Meinel, R. Heinemann, T. Koschwitz, J. Acker
Proceedings of the 26th European Photovoltaic Solar Energy Conference and Exhibition, 2011, 1671-1673
16."Thermoelektrische Schädigungsmechanismen an elektrochemisch abgeschiedenen Kupfer-Damszen-Leitbahnen"
M. Stangl, M. Liptak, J. Acker, V. Hoffmann, K. Wetzig
Jahrbuch Oberflächentechnik (Eugen G. Leutze Verlag) 64 (2008) 287-292
15."Application of the copper Damascene process for the preparation of electromigration test structures"
M. Stangl*, J. Acker, V. Hoffmann, K. Wetzig, U. Künzelmann, J.W. Bartha
Conference Proceedings "International Conference on Planarization/CMP Technology (ICPT)" 25. - 27. Oktober 2007, Dresden, VDI Verlag, S.331-336
14."Neue Erkenntnisse über den Mechanismus des sauren Ätzens von Silicium"
M. Steinert, J. Acker, K. Wetzig
Freiberger Forschungshefte, B337 "Freiberger Siliciumtage 2005: Halbleitermaterialien, Prozesstechnologie und Diagnostik", Hrsg.: H.-J. Möller, G. Roewer, 2006, S. 145-157
13."Advanced barriers for copper interconnects"
M. Hecker, R. Hübner, J. Acker, V. Hoffmann, N. Mattern, R. Ecke, S.E. Schulz, H. Heuer, C. Wenzel, H.J. Engelmann, E. Zschech
Materials for Information Technology: Devices, Interconnects and Packaging, Eds.: E. Zschech, C. Whelan, T. Mikolajick, in book series: Engineering Materials and Processes, Springer Verlag London, 2005, S. 283-295
12."Compensation effect in direct reactions of silicon"
J. Acker, H. Lieske, K. Bohmhammel
Organosilicon Chemistry VI: From Molecules to Materials", Eds.: N. Auner, J. Weis, Wiley-VCH, 2005, S.112-118
11."Beiträge zur Thermodynamik und Kinetik heterogener Reaktionen der Siliciumchemie"
J. Acker
Freiberger Forschungshefte, 2005 (ISBN 3-86012-248-7)
10."Basic reactions and mechanism of processes related to the direct synthesis"
K. Bohmhammel, G. Roewer, I. Röver, J. Acker
Silicon for the Chemical Industry VII, Eds.: H.A. Øye, A. Holås, L. Nygaard, The Norwegian University of Science and Technology, Trondheim, Norway, 2004, 125-138
9."Gewinnung von Precursor-Verbindungen zur Reinstsiliciumherstellung"
J. Acker, G. Roewer, I. Röver, K. Bohmhammel
Freiberger Forschungshefte, B327 "Freiberger Siliciumtage 2003: Halbleitermaterialien, Prozesstechnologie und Diagnostik", Hrsg.: H.-J. Möller, G. Roewer, 2004, S. 21-34
8."Untersuchungen zum Einbau von Additiven in elektrochemisch abgeschiedenen Kupferschichten"
M. Stangl, J. Acker, A. Henßge, W. Gruner, V. Hoffmann, H. Wendrock, K. Wetzig
Tagungsband "Oberflächentage 2004" der 42. Jahrestagung der Deutschen Gesellschaft für Galvano- und Oberflächentechnik e.V., 22.24. September 2004, Dresden, 2004, S. 185-187
7."Characterization of a PECVD WNx barrier layer against copper diffusion"
S. Zimmermann, R. Ecke, M. Rennau, S.E. Schulz, M. Hecker, A. Voß, J. Acker, H.-J. Engelmann, N. Mattern, E. Zschech, T. Gessner
Advanced Metallization Conference 2003 (AMC 2003), Conference Proceedings AMC XIX, Eds.: G.W. Ray, T. Smy, T. Ohta, M. Tsujimura, Materials Research Society, 2004, S. 397-402
6."SEM/EBSD texture analysis of electrochemically deposited CuAg-alloy thin films"
S. Strehle, S. Menzel, H. Wendrock, J. Acker, K. Wetzig
Proceedings of the Microscopy Conference, 8.-12. September 2003, Dresden, S.272-273
5."Monitoring der Silicidbildung von Übergangsmetallen mittels elektrischer Widerstandsmessungen"
I. Röver, J. Acker, G. Roewer, K. Bohmhammel
Freiberger Forschungsheft Nr. 325 (2002) 55-61
4."The catalytic hydrogenation of chlorosilane - the crucial point of production of electronic-grade silicon"
J. Acker, K. Bohmhammel, K. Hesse, U. Pätzold, G. Roewer, I. Röver
Silicon for the Chemical Industry VI, Eds.: H.A. Øye, H.M. Rong, L. Nygaard, G. Schüssler, J. Kr. Tuset, The Norwegian University of Science and Technology, Trondheim, Norway, 2002, 209-226
3."Formation of silicides in the system metal-silicon-chlorine-hydrogen: Consequences for the synthesis of trichlorosilane from silicon and hydrogen chloride"
J. Acker, I. Röver, G. Roewer, K. Bohmhammel
Silicon for the Chemical Industry V, Eds.: H.A. Øye, H.M. Rong, L. Nygaard, G. Schüssler, J. Kr. Tuset, The Norwegian University of Science and Technology, Trondheim, Norway, 2000, 121-133
2."Thermodynamics, kinetics and catalysis in the system Ni-Si-H-Cl: Thermodynamical description of chlorine-containing silicides "
J. Acker, K. Bohmhammel, G. Roewer
in: "Organosilicon Chemistry IV From Molecules to Materials", Eds.: N. Auner, J. Weis, Wiley-VCH, 2000, 818-823
1."Thermodynamic and kinetic study of the Ni-Si-Cl-H-system. The relevance for the catalytic synthesis of trichlorosilane."
J. Acker, K. Bohmhammel, G. Roewer
Silicon for the Chemical Industry IV, Eds.: H.A. Øye, H.M. Rong, L. Nygaard, G. Schüssler, J. Kr. Tuset, The Norwegian University of Science and Technology, Trondheim, Norway, 1998, 133-143

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