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Lattice strain enhanced acidic etching on as cut sawn silicon wafer Autor(en) Herold, Steven, Acker, Jörg Publikationsart Wissenschaftlicher Zeitschriftenartikel referiert Erscheinungsjahr 2021 Freie Schlagworte silicon; lattice strain; Raman microscopy; confocal microscopy; etching; reactivity Quelle Materials Science in Semiconductor Processing Band/Jahrgang 123 ISSN 1873-4081 1369-8001 URL https://www.sciencedirect.com/science/article/abs/pii/S1369800120315080 DOI https://doi.org/10.1016/j.mssp.2020.105575 Studies on the deposition of copper in lithium-ion batteries during the deep discharge process Autor(en) Langner, Thomas, Sieber, Tim, Acker, Jörg Publikationsart Wissenschaftlicher Zeitschriftenartikel referiert Erscheinungsjahr 2021 Freie Schlagworte lithium ion battery; discharge; continuum source AAS; REM-EXD; recycling Quelle Scientific Reports Ausgabe/Heft 11 ISSN 2045-2322 URL https://www.nature.com/articles/s41598-021-85575-x DOI https://doi.org/10.1038/s41598-021-85575-x The Role of the Molecular Hydrogen Formation in the Process of Metal Ion Reduction on Multi-crystalline Silicon in a Hydrofluoric Acid Matrix Autor(en) Schönekerl, Stefan, Acker, Jörg Publikationsart Wissenschaftlicher Zeitschriftenartikel referiert Erscheinungsjahr 2021 Freie Schlagworte molecular hydrogen; metal deposition; silicon; etching; hydrofluoric acid; reaction kinetics; dissolution; chemical analysis Quelle Nanomaterials Band/Jahrgang 11 Ausgabe/Heft 4 ISSN 2079-4991 URL https://www.mdpi.com/2079-4991/11/4/982 DOI https://doi.org/10.3390/nano11040982 Strain enhanced chemical oxidation of silicon wafer Autor(en) Herold, Steven, Acker, Jörg Publikationsart Wissenschaftlicher Zeitschriftenartikel referiert Erscheinungsjahr 2021 Freie Schlagworte silicon; lattice strain; oxidation; Raman; confocal microscopy Quelle Materials Science in Semiconductor Processing Band/Jahrgang 135 ISSN 1369-8001 DOI https://doi.org/10.1016/j.mssp.2021.106105 Redox catalysts based on amorphous porous carbons Autor(en) Klepel, Olaf, Utgenannt, Stephan, Vormelchert, Carolin, König, Mark, Meißner, Andre, Hansen, Felix, Bölte, Jens-Henning, Sieber, Tim, Heinemann, Robert, Bron, Michael, Rokicinska, Anna, Jarczewski, Sebastian, Kustrowski, Piotr Publikationsart Wissenschaftlicher Zeitschriftenartikel referiert Erscheinungsjahr 2021 Quelle Microporous Mesoporous Materials Band/Jahrgang 323 ISSN 1387-1811 DOI https://doi.org/10.1016/j.micromeso.2021.111257 Raman spectroscopic determination of the degree of dissociation of nitric acid in binary and ternary mixtures with HF and H2SiF6 Autor(en) Langner, Thomas, Rietig, Anja, Acker, Jörg Publikationsart Wissenschaftlicher Zeitschriftenartikel referiert Erscheinungsjahr 2020 Freie Schlagworte Raman spectroscopy; nitric acid; dissociation; hexafluosilicic acid; hydrofluoric acid; silicon; etching Quelle Journal of Raman Spectroscopy, S. 366 - 372 Band/Jahrgang 51 Ausgabe/Heft 2 DOI https://doi.org/10.1002/jrs.5769 Advanced insights into the stoichiometry and kinetics of the reaction of silicon in HF/HNO3 and HF/HNO3/H2SiF6 mixtures Autor(en) Rietig, Anja, Langner, Thomas, Acker, Jörg Herausgeber Andresen, Birger, Rong, Harry, Tangstad, Merete, Tveit, Halvard, Page, Ingrid Publikationsart Konferenzveröffentlichung referiert Erscheinungsjahr 2020 Verlag Trondheim : The Norwegian University of Science and Technology Freie Schlagworte silicon; etching; Raman; etch rate; mass spectrometry; hydrogen; nitrous gases Quelle Silicon for the Chemical and Solar Industry XV, S. 145 - 159 ISBN 978-82-997357-9-7 The Kinetics and Stoichiometry of Metal Cation Reduction on Multi-Crystalline Silicon in a Dilute Hydrofluoric Acid Matrix Autor(en) Schönekerl, Stefan, Acker, Jörg Publikationsart Wissenschaftlicher Zeitschriftenartikel referiert Erscheinungsjahr 2020 Freie Schlagworte silicon; etching; metal-assisted etching; kinetics; hydrofluoric acid; dissolution Quelle Nanomaterials Band/Jahrgang 10 Ausgabe/Heft 12 ISSN 1747-681X URL https://www.mdpi.com/2079-4991/10/12/2545 DOI https://doi.org/10.3390/nano10122545 Lattice strain and phase transformations in silicon introduced by the precipitation of Cu3Si Autor(en) Meißner, Andre, Sieber, Tim, Acker, Jörg Herausgeber Andresen, Birger, Rong, Harry, Tangstad, Merete, Tveit, Halvard, Page, Ingrid Publikationsart Konferenzveröffentlichung referiert Erscheinungsjahr 2020 Verlag Trondheim : The Norwegian University of Science and Technology Freie Schlagworte silicon; direct synthesis; copper silicide; cuprous chloride; Raman; lattice strain; reactivity Quelle Silicon for the Chemical and Solar Industry XV, S. 47 - 56 ISBN 978-82-997357-9-7 Recovery of Li(Ni0.33Mn0.33Co0.33)O2 from Lithium-Ion Battery Cathodes: Aspects of Degradation Autor(en) Sieber, Tim, Ducke, Jana, Rietig, Anja, Langner, Thomas, Acker, Jörg Publikationsart Wissenschaftlicher Zeitschriftenartikel referiert Erscheinungsjahr 2019 Freie Schlagworte lithium; nickel–manganese–cobalt oxide; NMC; leaching; recycling; SEM-EDX; Raman spectroscopy; lithium ion battery Quelle Nanomaterials, S. 246 - 259 Band/Jahrgang 9 Ausgabe/Heft 2 ISSN 2079-4991 URL https://www.mdpi.com/journal/nanomaterials/special_issues/charact_nano https://www.mdpi.com/2079-4991/9/2/246 DOI https://doi.org/10.3390/nano9020246 Electroless-Deposited Platinum Antennas for Wireless Surface Acoustic Wave Sensors Autor(en) Brachmann, Erik, Seifert, Marietta, Neumann, Niels, Alshwawreh, Nidal, Uhlemann, Margitta, Menzel, Siegfried, Acker, Jörg, Herold, Steven, Hoffmann, Volker, Gemming, Thomas Publikationsart Wissenschaftlicher Zeitschriftenartikel referiert Erscheinungsjahr 2019 Freie Schlagworte wireless SAW sensor; high-temperature; antenna; electroless deposition; platinum film Quelle Materials, S. 1002 - 1014 Band/Jahrgang 12 Ausgabe/Heft 7 ISSN 1996-1944 URL https://www.mdpi.com/1996-1944/12/7/1002 DOI https://doi.org/10.3390/ma12071002 Ressourcensicherung durch Recycling von Sekundärrohstoffen Autor(en) Rietig, Anja, Acker, Jörg Publikationsart Teil eines Buches (Kapitel) Erscheinungsjahr 2019 Verlag Berlin : Vereinigung für Betriebliche Bildungsforschung e.V. Freie Schlagworte Lithiumbatterie; Funktionelles Recycling; Nickel-Mangan-Cobalt-Oxid; NMC; Raman-Spektroskopie; Laugung Quelle Systemwissen für die vernetzte Energie- und Mobilitätswende, S. 170 - 181 ISBN 978-3-9816861-7-3 Measurement of the temperature dependence of lattice deformations in silicon using Raman microscopy Autor(en) Herold, Steven, Acker, Jörg Publikationsart Wissenschaftlicher Zeitschriftenartikel referiert Erscheinungsjahr 2019 Freie Schlagworte Raman spectroscopy; mechanical stress; silicon; crystallization; relaxation; thermal treatment; solar cell Quelle Journal of Applied Physics Band/Jahrgang 126 ISSN 1089-7550 URL https://aip.scitation.org/doi/10.1063/1.5090476 DOI https://doi.org/10.1063/1.5090476 Analysis of the strain dependent acidic etch rate on diamond wire sawn silicon wafer Autor(en) Herold, Steven, Acker, Jörg Herausgeber Zschech, Ehrenfried Publikationsart Konferenzveröffentlichung nicht referiert Erscheinungsjahr 2019 Verlag Dresden : Fraunhofer IKTS Dresden Quelle 7th Dresden Nanoanalysis Symposium : “Nano-scale characterization for cutting-edge materials research and sustainable materials development”, Abstract booklet, S. 46 URL https://www.nanoanalytik.fraunhofer.de/content/dam/nanoanalytik/de/documents/7th_Dresden_Nanoanalysis_Symposium_abstracts.pdf A two-step acidic texturization procedure for the manufacture of lowreflective multi-crystalline silicon solar wafer Autor(en) Meinel, Birgit, Langner, Thomas, Preis, Pirmin, Wefringhaus, Eckard, Acker, Jörg Publikationsart Wissenschaftlicher Zeitschriftenartikel referiert Erscheinungsjahr 2019 Freie Schlagworte acidic texturization; multi-crystalline silicon; reflectivity; solar cell parameter; topography; confocal microscopy Quelle Solar Energy, S. 395 - 402 Band/Jahrgang 193 ISSN 0038-092X DOI https://doi.org/10.1016/j.solener.2019.09.051 A revised model of silicon oxidation during the dissolution of silicon in HF/HNO₃ mixtures Autor(en) Rietig, Anja, Langner, Thomas, Acker, Jörg Publikationsart Wissenschaftlicher Zeitschriftenartikel referiert Erscheinungsjahr 2019 Freie Schlagworte silicon; etching; mechanism; nitrogen oxide; hydrogen; mass spectrometry; Raman spectroscopy; kinetics Quelle Physical chemistry, chemical physics, S. 22002 - 22013 Band/Jahrgang 21 ISSN 1463-9076 URL https://pubs.rsc.org/en/content/articlelanding/2019/CP/C9CP04429A#!divAbstract DOI https://doi.org/10.1039/c9cp04429a Rückgewinnung von Platin, Palladium und Rhodium aus Autoabgaskatalysatoren: Bestimmung der Edelmetallgehalte im Eisensammler mittels ICP-OES Autor(en) Ducke, Jana, Acker, Jörg Herausgeber Vogt, Carla Publikationsart Konferenzveröffentlichung nicht referiert Erscheinungsjahr 2019 Verlag Freiberg : TU Bergakademie Freiberg Freie Schlagworte ICP-OES; Präzisionsanalytik; Mikrowellenaufschluss; Matrixeffekte; Platin; Eisen; Interferenzen; Palladium; Rhodium Quelle Colloquium Analytische Atomspektroskopie - CANAS 2019, Book of Abstracts, S. 32 URL https://tu-freiberg.de/canas Direkte Feststoffanalyse von Hauptkomponenten in Kathodenmaterialien von Lithiumbatterien mittels HRCS-GF-AAS Autor(en) Sieber, Tim, Rietig, Anja, Ducke, Jana, Acker, Jörg Herausgeber Vogt, Carla Publikationsart Konferenzveröffentlichung nicht referiert Erscheinungsjahr 2019 Verlag Freiberg : TU Bergakademie Freiberg Freie Schlagworte continuum source; AAS; Feststoffanalytik; Feststoffstandard; Graphitrohr; Interferenz; NMC; Recycling; Lithium; Batterie Quelle Colloquium Analytische Atomspektroskopie - CANAS 2019, Book of Abstracts, S. 14 URL https://tu-freiberg.de/en/canas/canas-2019-engl/final-program Degradation effects on Li(Ni0.33Mn0.33Co0.33)O2 in the recovery of lithium battery cathodes Autor(en) Acker, Jörg, Sieber, Tim, Ducke, Jana, Langner, Thomas, Rietig, Anja Publikationsart Konferenzveröffentlichung nicht referiert Erscheinungsjahr 2019 Verlag Ulm : Zentrum für Sonnenenergie- und Wasserstoff-Forschung Baden-Württemberg Freie Schlagworte lithium ion battery; recycling; NMC; electromobility; degradation; Raman spectroscopy; cathode Quelle Advanced Lithium Batteries for Automobile Applications - ABAA 12, Book of Abstracts, S. 28 Saw Damage as an Etch Mask for the Acidic Texturization of Multicrystalline Silicon Wafers Autor(en) Acker, Jörg, Langner, Thomas, Meinel, Birgit, Sieber, Tim Publikationsart Wissenschaftlicher Zeitschriftenartikel referiert Erscheinungsjahr 2018 Freie Schlagworte silicon; texturization; acidic etching; multi-wire sawing; stress field; confocal microscopy; solar cell Quelle Materials Science in Semiconductor Processing, S. 238 - 248 Band/Jahrgang 74 ISSN 1369-8001 URL https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S1369800117313896 DOI https://doi.org/10.1016/j.mssp.2017.09.039 The impact of lattice strain on the reactivity of silicon Autor(en) Acker, Jörg, Sieber, Tim, Langner, Thomas, Herold, Steven Herausgeber Andresen, Birger, Nygaard, Lars, Rong, Harry, Tangstad, Merete, Tveit, Halvard, Page, Ingrid Gamst Publikationsart Wissenschaftlicher Zeitschriftenartikel nicht referiert Erscheinungsjahr 2018 Verlag Trondheim : The Norwegian University of Science and Technology Freie Schlagworte silicon; etching; Raman spectroscopy; lattice strain; stress; mechanical activation; mechanochemistry; confocal microscopy Quelle Silicon for the Chemical and Solar Industry XIV, S. 11 - 20 Etching Shapes the Topography of Silicon Wafers: Lattice-Strain Enhanced Chemical Reactivity of Silicon for Efficient Solar Cells Autor(en) Langner, Thomas, Sieber, Tim, Acker, Jörg Publikationsart Wissenschaftlicher Zeitschriftenartikel referiert Erscheinungsjahr 2018 Freie Schlagworte lattice strain; silicon; Raman microscopy; confocal microscopy; etching; reactivity; solar cell; mechanochemistry Quelle ACS Applied Nano Materials, S. 4135 - 4144 Band/Jahrgang 1 Ausgabe/Heft 8 DOI https://doi.org/10.1021/acsanm.8b00906 Lattice strain controls the etching of solar wafer surfaces Autor(en) Langner, Thomas, Sieber, Tim, Acker, Jörg Herausgeber Scheschkewitz, David, Kickelbick, Guido Publikationsart Konferenzveröffentlichung Erscheinungsjahr 2018 Verlag Saarbrücken : Universität des Saarlandes Freie Schlagworte Raman spectroscopy; silicon; lattice strain; etching; confocal microscopy Quelle 9th European Silicon Days, 9-12 September 2018, Saarbrücken, Germany, Book of abstracts, S. 201 The influence of lattice deformations on the etch rates of potassium hydroxide on silicon Autor(en) Herold, Steven, Acker, Jörg Herausgeber Scheschkewitz, David, Kickelbick, Guido Publikationsart Konferenzveröffentlichung Erscheinungsjahr 2018 Verlag Saarbrücken : Universität des Saarlandes Freie Schlagworte silicon; etching; Raman spectroscopy; lattice strain; saw damage; confocal microscopy Quelle 9th European Silicon Days, 9-12 September 2018, Saarbrücken, Germany, Book of abstracts, S. 198 Measurement of the temperature dependence of lattice deformations in silicon using Raman microscopy Autor(en) Herold, Steven, Acker, Jörg Herausgeber Scheschkewitz, David, Kickelbick, Guido Publikationsart Konferenzveröffentlichung Erscheinungsjahr 2018 Verlag Saarbrücken : Universität des Saarlandes Freie Schlagworte silicon; lattice strain; Raman microscopy; phase transition Quelle 9th European Silicon Days, 9-12 September 2018, Saarbrücken, Germany, Book of abstracts, S. 197 Degradation of Li(Ni₀.₃₃MnCo₀.₃₃)O₂ in the recycling of lithium battery cathodes Autor(en) Sieber, Tim, Ducke, Jana, Acker, Jörg Herausgeber Zschech, Ehrenfried Publikationsart Konferenzveröffentlichung Erscheinungsjahr 2018 Verlag Dresden : Fraunhofer IKTS Dresden Freie Schlagworte lithium battery; recycling; nickel manganese cobalt oxide; degradation; Raman microscopy; chemical analysis Quelle 6th Dresden Nanoanalysis Symposium - Abstract Booklet, S. 52 URL https://www.nanoanalytik.fraunhofer.de/content/dam/nanoanalytik/de/documents/6th_Dresden_Nanoanalysis_Symposium_abstracts.pdf Dissolution of silicon in HF/HNO3 mixtures: A revised model Autor(en) Rietig, Anja, Langner, Thomas, Acker, Jörg Herausgeber Scheschkewitz, David, Kickelbick, Guido Publikationsart Konferenzveröffentlichung Erscheinungsjahr 2018 Verlag Saarbrücken : Universität des Saarlandes Freie Schlagworte silicon; etching; Raman spectroscopy; mass spectrometry; gas analysis; reaction mechanism Quelle 9th European Silicon Days, 9-12 September 2018, Saarbrücken, Germany, Book of abstracts, S. 199 Raman spectroscopic study on the formation of Cu3Si Autor(en) Meißner, André, Acker, Jörg Herausgeber Scheschkewitz, David, Kickelbick, Guido Publikationsart Konferenzveröffentlichung Erscheinungsjahr 2018 Verlag Saarbrücken : Universität des Saarlandes Freie Schlagworte Raman spectroscopy; silicon; lattice strain; copper silicide; direct synthesis Quelle 9th European Silicon Days, 9-12 September 2018, Saarbrücken, Germany, Book of abstracts Behavior of electroless copper deposition onto multi-crystalline silicon in diluted hydrofluoric acid solutions Autor(en) Schönekerl, Stefan, Acker, Jörg Herausgeber Scheschkewitz, David, Kickelbick, Guido Publikationsart Konferenzveröffentlichung Erscheinungsjahr 2018 Verlag Saarbrücken : Universität des Saarlandes Freie Schlagworte silicon; metal assisted etching; deposition; copper; dissolution Quelle 9th European Silicon Days, 9-12 September 2018, Saarbrücken, Germany, Book of abstracts, S. 82 Development and validation of a new method for the precise and accurate determination of trace elements in silicon by ICP-OES in high silicon matrices Autor(en) Rietig, Anja, Acker, Jörg Publikationsart Wissenschaftlicher Zeitschriftenartikel referiert Erscheinungsjahr 2017 Freie Schlagworte impurities; inductively coupled plasma emission spectroscopy; silicon; microwave-assisted digestion; high silicon matrix; multiple standard addition; boron; phosphorus Quelle Journal of Analytical Atomic Spectrometry, S. 322 - 333 Band/Jahrgang 32 Ausgabe/Heft 2 URL http://pubs.rsc.org/en/content/articlelanding/2017/ja/c6ja00241b#!divAbstract DOI https://doi.org/10.1039/C6JA00241B Chemical etching of Tungsten thin films for high-temperature surface acoustic wave-based sensor devices Autor(en) Spindler, Mario, Herold, Steven, Acker, Jörg, Brachmann, Erik, Oswald, Steffen, Menzel, Siegfried, Rane, Gerd Publikationsart Wissenschaftlicher Zeitschriftenartikel referiert Erscheinungsjahr 2016 Freie Schlagworte SAW devices; Tungsten electrodes; Magnetron sputtering; Wet-chemical etching; Lift-off structuring Quelle Thin Solid Films, S. 322 - 326 Band/Jahrgang 612 URL http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S004060901630116X DOI https://doi.org/10.1016/j.tsf.2016.04.035 Impact of the chemical form of different fluorine sources on the formation of AlF molecules in a C2H2/N2O flame Autor(en) Acker, Jörg, Bücker, Stefan, Hoffmann, Volker Publikationsart Wissenschaftlicher Zeitschriftenartikel referiert Erscheinungsjahr 2016 Freie Schlagworte flame molecular absorption spectrometry; diatomic molecule; aluminum monofluoride; C2H2/N2O flame; hexafluorosilicic acid; tetrafluoro boric acid; trifluoro acetic acid; species fragmentation Quelle Journal of Analytical Atomic Spectrometry, S. 902 - 911 Band/Jahrgang 31 ISSN 0267-9477 1364-5544 URL http://pubs.rsc.org/en/Content/ArticleLanding/2016/JA/C5JA00470E#!divAbstract DOI https://doi.org/10.1039/C5JA00470E A new and fast method for determination of boron, phosphorus and other trace elements in metallurgical grade silicon Autor(en) Rietig, Anja, Acker, Jörg Herausgeber Nygaard, Lars, Pachaly, Bernd, Page, Ingrid Gamst, Rong, Harry M., Tangstad, Merete, Tveit, Halvard Publikationsart Konferenzveröffentlichung Erscheinungsjahr 2016 Verlag Trondheim : Department of Materials Science and Engineering, Norwegian University of Science and Technology Freie Schlagworte silicon; ICP-OES; impurity; chemical analysis; boron; phosphorus Quelle Silicon for the Chemical and Solar Industry XIII, Kristiansand, 2016, S. 95 - 106 URL https://www.ntnu.no/trykk/publikasjoner/Silicon%20for%20the%20chemical%20and%20solar%20industry%20XIII/ Lattice-strain induced chemical reactivity of silicon Autor(en) Acker, Jörg, Langner, Thomas, Koschwitz, Tim Herausgeber Marciniec, Bogdan Publikationsart Konferenzveröffentlichung Erscheinungsjahr 2016 Verlag Poznań, Poland : Wielkopolska Centre for Advanced Technologies, Adam Mickiewicz University Freie Schlagworte silicon; lattice strain; reactivity; etching; Raman microscopy; confocal microscopy Quelle 8th European Silicon Days 2018, Conference Proceedings, S. 124 NMR investigation of boron impurities in refined metallurgical grade silicon Autor(en) Grafe, Hans-Joachim, Löser, Wolfgang, Schmitz, Steffen, Sakaliyska, Miroslava, Wurmehl, Sabine, Eisert, Stefan, Reichenbach, Birk, Acker, Jörg, Rietig, Anja, Ducke, Jana Publikationsart Wissenschaftlicher Zeitschriftenartikel referiert Erscheinungsjahr 2015 Freie Schlagworte boron; impurity; intermetallic compounds; nuclear magnetic resonance; silicon; transition-metal diboride; Si-Al melt; removal; solidification Quelle Physica status solidi. A, Applications and Materials Science, S. 2031 - 2036 Band/Jahrgang 212 Ausgabe/Heft 9 ISSN 1862-6319 URL http://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/pssa.201431908/full DOI https://doi.org/10.1002/pssa.201431908 Comparison of diamond wire cut and silicon carbide slurry processed silicon wafer surfaces after acidic texturisation Autor(en) Meinel, Birgit, Koschwitz, Tim, Blocks, Christian, Acker, Jörg Publikationsart Wissenschaftlicher Zeitschriftenartikel referiert Erscheinungsjahr 2014 Freie Schlagworte Surface morphology; Confocal microscopy; Acidic etching; Texturisation; Diamond wire sawing; Slurry sawing; silicon; solar cell; chemical analysis Quelle Materials Science in Semiconductor Processing, S. 93 - 100 Band/Jahrgang 26 ISSN 1369-8001 URL http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S1369800114001875 DOI https://doi.org/10.1016/j.mssp.2014.03.046 The Formation of AlF Molecules and Al Atoms in a C2H2/N2O Flame Studied by Absorption and Emission Spectrometry of Molecules and Atoms Autor(en) Acker, Jörg, Bücker, Stefan, Hoffmann, Volker Publikationsart Wissenschaftlicher Zeitschriftenartikel referiert Erscheinungsjahr 2014 Freie Schlagworte AlF; AlF3; AlO; diatomic molecule; high-resolution continuum source absorption spectrometry; molecular absorption spectrometry; molecular emission spectrometry; air-acetylene flame Quelle Current Analytical Chemistry, S. 418 - 425 Band/Jahrgang 10 Ausgabe/Heft 3 ISSN 1875-6727 1573-4110 Determination of Fluorine by Molecular Absorption Spectrometry of AlF Using a High-Resolution Continuum Source Spectrometer and a C2H2/N2O Flame Autor(en) Bücker, Stefan, Hoffmann, Volker, Acker, Jörg Publikationsart Wissenschaftlicher Zeitschriftenartikel referiert Erscheinungsjahr 2014 Freie Schlagworte AlF; fluorine determination; high resolution continuum source absorption spectrometry; molecular absorption spectrometry; non-spectral interference; diatomic molecule Quelle Current Analytical Chemistry, S. 426 - 434 Band/Jahrgang 10 Ausgabe/Heft 3 ISSN 1573-4110 1875-6727 Segregation, grain boundary milling, and chemical leaching for the refinement of metallurgical-grade silicon for photovoltaic application Autor(en) Acker, Jörg, Ducke, Jana, Rietig, Anja, Müller, Tim, Eisert, Stefan, Reichenbach, Birk, Löser, Wolfgang Herausgeber Oye, Harald A., Brekken, Harald, Rong, Harry M., Tangstad, Merete, Tveit, Halvard Publikationsart Konferenzveröffentlichung Erscheinungsjahr 2014 Verlag Trondheim : Department of Materials Science and Engineering, Norwegian University of Science and Technology Freie Schlagworte silicon; leaching; hydrometallurgy; solar cell; segregation; etching Quelle Silicon for the Chemical and Solar Industry XII, Trondheim, 2014, S. 177 - 188 ISBN 978-82-997357-8-0 The texturization process during horizontal acidic etching of multi-crystalline silicon wafers Autor(en) Meinel, Birgit, Koschwitz, Tim, Heinemann, Robert, Acker, Jörg Publikationsart Wissenschaftlicher Zeitschriftenartikel referiert Erscheinungsjahr 2014 Freie Schlagworte Acidic etching; Surface properties; Confocal microscopy; Reflectivity; Activation energy; silicon; HF/HNO3 mixture; solar cell Quelle Materials Science in Semiconductor Processing, S. 695 - 703 Band/Jahrgang 26 ISSN 1369-8001 URL http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S136980011400482X DOI https://doi.org/10.1016/j.mssp.2014.08.047
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