Veröffentlichung publiziert

Eine gemeinsame Veröffentlichung mit Autoren der Universität Bremen, dem »MAPEX Center for Materials and Processes (Bremen)« und von der »ALBA Synchrotron Light Facility« (Barcelona, Spanien) wurde in der Zeitschrift »Crystal Growth & Design« publiziert.

S. Fischer, J.-O. Krisponeit, M. Foerster, L. Aballe, J. Falta, J. I. Flege
Massively strained VO2 thin film growth on RuO2
Crystal Growth & Design 20 (2020) 2734-2741
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Prof. Dr. rer. nat. habil. Ingo Flege
Angewandte Physik und Halbleiterspektroskopie
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