UHV-Spektromikroskopie

• Surface Science Cluster
• XPS/UPS: Photoelektronenspektroskopie
• PEEM: Photoemissionselektronenmikroskopie
• NEXAFS-Spektroskopiekammer für Ultrahochvakuum (UHV)
• AFM-STM: Kombinierte Rasterkraft- und Rastertunnelmikroskopie (Omicron) für Messungen im UHV

Spektromikroskopie

• Raman-Mikroskop

Mikroskopie

• Atomkraftmikroskop (AFM) 
• Interferenzmikroskop Epival Interphako (Carl Zeiss)
• Auflichtmikroskop Epityp (Carl Zeiss)
• MikroViewer (Kappa) (Videomikroskop bis 1000-fache Vergrößerung)

Beugung

• LEED (BDL800 LEED Scienta Omicron)

Oberflächenbeschichtung-und -behandlung (Abscheidung)

• Atomlagenabscheidung (ALD)
  • in-situ ALD Cluster
  • ex-situ ALD
• Glove-Box zur Herstellung von organischen Schichten unter sauerstofffreien Bedingungen
• UV-Ozonreiniger

Katalyse

• Durchflussreaktor (Normaldruck) zur Umsetzung von CO₂ zu Methan (Sabatier-Reaktion)
• Reaktor zur direkten Umsetzung von CO₂ zu Methanol bis 45 bar

Elektrische Messtechnik

• Oszilloskop HP 54616 (500 MHz, 2 Gsa/s, single shot)
• Generatoren, Frequenzzähler, Multimeter, Netzgeräte (HP, Hameg, Keithley, Prema)
• LCR-Meter Agilent 4284A, LCR-817 (instek)
• Netzwerkanalysator Agilent E5100A
• CV Messplatz, IV Messplatz

weitere Messtechnik

• Pyrometer (Temperatur-Messgerät) Modline plus icron 400-1200°C