Die technische Ausstattung des Lehrstuhls
- Surface Science Cluster
- XPS/UPS: Photoelektronenspektroskopie
- PEEM: Photoemissionselektronenmikroskopie
- NEXAFS-Spektroskopiekammer für Ultrahochvakuum (UHV)
- AFM-STM: Kombinierte Rasterkraft- und Rastertunnelmikroskopie (Omicron) für Messungen im UHV
Spektromikroskopie
- Raman-Mikroskop
Mikroskopie
- Atomkraftmikroskop (AFM)
- Interferenzmikroskop Epival Interphako (Carl Zeiss)
- Auflichtmikroskop Epityp (Carl Zeiss)
- MikroViewer (Kappa) (Videomikroskop bis 1000-fache Vergrößerung)
Beugung
- LEED (BDL800 LEED Scienta Omicron)
Oberflächenbeschichtung-und -behandlung (Abscheidung)
- Atomlagenabscheidung (ALD)
- Glove-Box zur Herstellung von organischen Schichten unter sauerstofffreien Bedingungen
- UV-Ozonreiniger
Katalyse
- Durchflussreaktor (Normaldruck) zur Umsetzung von CO2 zu Methan (Sabatier-Reaktion)
- Reaktor zur direkten Umsetzung von CO2 zu Methanol bis 45 bar
Elektrische Messtechnik
- Oszilloskop HP 54616 (500 MHz, 2 Gsa/s, single shot)
- Generatoren, Frequenzzähler, Multimeter, Netzgeräte (HP, Hameg, Keithley, Prema)
- LCR-Meter Agilent 4284A, LCR-817 (instek)
- Netzwerkanalysator Agilent E5100A
- CV Messplatz, IV Messplatz
weitere Messtechnik
- Pyrometer (Temperatur-Messgerät) Modline plus icron 400-1200°C