Laufende Dissertationen

  • Lars Buß
    (»N.N.«)
  • Ali Mahmoodinezhad
    »Atomic layer deposition and characterization of metal oxide thin films»
    eingereicht
  • Emilia Pożarowska
    (»N.N.«)
  • Stefan Weitz (Fraunhofer IKTS Dresden)
    »N.N.«
  • Fatima Akhtar (ihp Frankfurt/O.)
    »Growth of gaphene under Si-CMOS compatible conditions«
    (verteidigt am 25.04.2022)
  • Simon Fischer (Universität Bremen)
    »Strongly Strained Growth of Vanadium Dioxide Thin Films On Microscale Ruthenium Dioxide Islands«, (verteidigt am 28.09.2021)
  • Linus Pleines
    (»N.N.«)