Fachgebiet
Angewandte Physik und Halbleiterspektroskopie
Prof. Dr. rer. nat. habil. Jan Ingo Flege
Eingereichte Veröffentlichungen
lfd_302 Intrinsic electrocatalytic activity of nitrogen-doped monolayer graphene observed using a Janus bilayer design G. Alexander, T. Grosser, C. Sulaiman, R. Sánchez-Barquilla, E. Fuhry, I. Wachta, R. Jungnickel, J. I. Flege, K. Balasubramanian submitted
lfd_301 Defect Engineering in Atomic-Layer Deposited Cerium Oxide R. Tschammer, M. Schmickler, Y. Kosto, K. Henkel, P. Kaur, A. Devi, C. Morales, J. I. Flege submitted
lfd_300 Surface termination of β-Ga2O3(100) as-cleaved single crystals M.-C. Kao, L. P. Schewe, A. Akhtar, A. Vlad, T. Keller, K. Henkel, S. B. Anooz, A. Popp, Z. Galazka, J. I. Flege, A. Stierle, V. Vonk submitted
lfd_297 Correlation Between Electron Beam Evaporation Conditions and Sensor Response of Cerium Oxide Coatings P. Kapuścik, J. Domaradzki, A. Obstarczyk, M. Kot, J. I. Flege, E. Keel, D. Gibson, D. Wojcieszak submitted
lfd_295 Bottom-Up strategy to develop ultrathin active layers by atomic layer deposition for room temperature hydrogen sensors C. Morales, R. Tschammer, D. Guttmann, K. Henkel, J. I. Flege, C. Ruffert, C. Alvarado, C. Wenger Proceedings of MikrosystemTechnik Kongress 2025, submitted
lfd_241 The Breakdown of Mott Physics at VO2 Surfaces J. Wahila, N. F. Quackenbush, J. T. Sadowski, J.-O. Krisponeit, J. I. Flege, R. Tran, S. P. Ong, C. Schlueter, T.-L. Lee, M. E. Holtz, D. A. Muller, H. Paik, D. G. Schlom, W.-C. Lee, L. F. J. Piper submitted arXiv:2012.05306 [cond-mat.str-el]
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