Fachgebiet
Angewandte Physik und Halbleiterspektroskopie
Prof. Dr. rer. nat. habil. Jan Ingo Flege
Eingereichte Veröffentlichungen
lfd_304 Impact of Experimental Parameters on the Growth and Properties of Pyrite (FeS2) Thin Films Obtained by Sulfuration of Fe Layers C. Morales, A. Pascual, J. I. Flege, J. R. Ares, I. J. Ferrer, C. Sanchez submitted
lfd_303 Chemical and structural inhomogeneity in chemical vapor deposited graphene and molybdenum disulphide based moiré heterostructures A. D. Pandey, L. Buß, C. H. Sharma, P. Zhao, T. F. Keller, J. Falta, R. H. Blick, J. I. Flege, A. Stierle submitted
lfd_295 Bottom-Up strategy to develop ultrathin active layers by atomic layer deposition for room temperature hydrogen sensors C. Morales, R. Tschammer, D. Guttmann, K. Henkel, J. I. Flege, C. Ruffert, C. Alvarado, C. Wenger Proceedings of MikrosystemTechnik Kongress 2025, submitted
lfd_241 The Breakdown of Mott Physics at VO2 Surfaces J. Wahila, N. F. Quackenbush, J. T. Sadowski, J.-O. Krisponeit, J. I. Flege, R. Tran, S. P. Ong, C. Schlueter, T.-L. Lee, M. E. Holtz, D. A. Muller, H. Paik, D. G. Schlom, W.-C. Lee, L. F. J. Piper submitted arXiv:2012.05306 [cond-mat.str-el]
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