Undulator- Strahlrohr U49/2- PGM2 bei BESSY 2 Details

UHV-Spektromikroskopie Übersichtsskizze

• XPS/UPS Details
• PEEM (Photo Emissions Elektronen Mikroskopie) Details
• NEXAFS-Spektroskopiekammer für Ultrahochvakuum (UHV)
• Kombiniertes AFM-STM (Omicron) für Messungen im UHV
  
  

Spektroskopie

• FTIR (Fourier Transform Infrarot Spektrometer) FTS 60B (Bio Rad) Details
  
  

Mikroskopie

• Atomkraftmikroskop (AFM) Details
• Interferenzmikroskop Epival Interphako (Carl Zeiss) Details
• Auflichtmikroskop Epityp (Carl Zeiss) Details
• MikroViewer (Kappa) (Videomikroskop bis 1000-fache Vergrößerung)

Oberflächenbeschichtung-und -behandlung (Abscheidung)

• ALD: (in-situ)2
• CVD von SiC-Schichten Details
• Oberflächenbehandlung von Si-Schichten Details
• Glove-Box zur Herstellung von organischen Schichten unter sauerstofffreien Bedingungen Details
  
  

Katalyse

• Durchflussreaktor (Normaldruck) zur Umsetzung von CO2 zu Methan (Sabatier-Reaktion)

Sensorik

• Gasmischstation (Sensortests) Details
• Beschichtungseinrichtungen für Sensoren (Airbrush, Spin Coating, Plotten) Details
• Aufbau zur Messung von U-I-Kennlinien (Sensoreigenschaften)

Elektrische Messtechnik

• Oszilloskop HP 54616 (500 MHz, 2 Gsa/s, single shot)
• Generatoren, Frequenzzähler, Multimeter, Netzgeräte (HP, Hameg, Keithley, Prema)
• LCR-Meter Agilent 4284A, LCR-817 (instek)
• Netzwerkanalysator Agilent E5100A
• CV Messplatz, IV Messplatz

weitere Messtechnik

• Pyrometer (Temperatur-Messgerät) Modline plus icron 400-1200°C
• Schichtdickenmessgerät Talystep (Rank Taylor Hobson) Details