Labor- und Messtechnik

Die technische Ausstattung des Lehrstuhls

Undulator- Strahlrohr U49/2- PGM2 bei BESSY 2 Details

UHV-Spektromikroskopie Übersichtsskizze

  • XPS/UPS Details
  • PEEM (Photo Emissions Elektronen Mikroskopie) Details
  • NEXAFS-Spektroskopiekammer für Ultrahochvakuum (UHV)
  • Kombiniertes AFM-STM (Omicron) für Messungen im UHV

Spektroskopie

  • FTIR (Fourier Transform Infrarot Spektrometer) FTS 60B (Bio Rad) Details

Mikroskopie

  • Atomkraftmikroskop (AFM) Details
  • Interferenzmikroskop Epival Interphako (Carl Zeiss) Details
  • Auflichtmikroskop Epityp (Carl Zeiss) Details
  • MikroViewer (Kappa) (Videomikroskop bis 1000-fache Vergrößerung)


Oberflächenbeschichtung-und -behandlung (Abscheidung)

  • ALD: (in-situ)2
  • CVD von SiC-Schichten Details
  • Oberflächenbehandlung von Si-Schichten Details
  • Glove-Box zur Herstellung von organischen Schichten unter sauerstofffreien Bedingungen Details

Katalyse

  • Durchflussreaktor (Normaldruck) zur Umsetzung von CO2 zu Methan (Sabatier-Reaktion)


Sensorik

  • Gasmischstation (Sensortests) Details
  • Beschichtungseinrichtungen für Sensoren (Airbrush, Spin Coating, Plotten) Details
  • Aufbau zur Messung von U-I-Kennlinien (Sensoreigenschaften)


Elektrische Messtechnik

  • Oszilloskop HP 54616 (500 MHz, 2 Gsa/s, single shot)
  • Generatoren, Frequenzzähler, Multimeter, Netzgeräte (HP, Hameg, Keithley, Prema)
  • LCR-Meter Agilent 4284A, LCR-817 (instek)
  • Netzwerkanalysator Agilent E5100A
  • CV Messplatz, IV Messplatz


weitere Messtechnik

  • Pyrometer (Temperatur-Messgerät) Modline plus icron 400-1200°C
  • Schichtdickenmessgerät Talystep (Rank Taylor Hobson) Details

 
 

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