Veröffentlichung in »Crystal Growth & Design« - Fachgebiet Angewandte Physik und Halbleiterspektroskopie

Eine gemeinsame Veröffentlichung mit Autoren der Universität Bremen, dem »MAPEX Center for Materials and Processes (Bremen)« und von der »ALBA Synchrotron Light Facility« (Barcelona, Spanien) wurde in der Zeitschrift »Crystal Growth & Design« publiziert.

S. Fischer, J.-O. Krisponeit, M. Foerster, L. Aballe, J. Falta, J. I. Flege
Massively strained VO₂ thin film growth on RuO₂
Crystal Growth & Design 20 (2020) 2734-2741
Online (DOI)

Kontakt

Prof. Dr. rer. nat. habil. Jan Ingo Flege
Angewandte Physik und Halbleiterspektroskopie
T +49 (0) 355 69-5352
flege(at)b-tu.de

Table of Content [Crystal Growth & Design 20 (2020) 2734]

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