in-situ ALD Cluster

System zur Atomlagenabscheidung (ALD) mit gekoppelter

  • in-situ Photoelektronenspektroskopie (XPS)
  • in-operando spektroskopischer Ellipsomtrie (SI)
  • in-operando Quadrupol-Massenspektrometrie (QMS)

ALD-Reaktor

  • UHV-kompatible Edelstahlkammer
  • Heizbarer (bis 1000°C) Probenhalter mit SiN-Heizer
  • 3-Achsen-Positionierung inklusive θ-Rotatition
  • Betrieb in Durchfluss- oder gepumpten Modus
  • Gasmischung und -versorgung:
    • VCR-basiert
    • 3 Hauptleitungen über Massenflussmesser (Bronkhorst) gesteuert
      • 3 Leitungen für Präkuroren (mit hohem, niedrigem und mittlerem Dampfdruck)
      • 3 Leitungen für Oxidant/Reaktant (H2O, O3/O2...)
      • 1 Spülleitung (N2)
      • Leitungen heizbar bis 120°C
    • Pneumatische ALD-Ventile (Swagelok)
  • Ozongenerator (Oxidation Technologies)
  • Steuerungssoftware: Lab-View

XPS (in-situ)

  • Schleusenkammer mit Probenaufbewahrungsmöglichkeit
  • Präparationskammer (thermische oder Gasbehandlung vor bzw. nach dem ALD-Wachstum)
    • Gasanalyse über gekoppelte Massenspektrometrie (MKS) möglich
    • Zusätzliche Beschichtung mittels thermischer oder Elektronenstrahlverdampfung möglich
  • Analysekammer
    • Al/Mg Zwillingsanode (nicht monochromatisiert)
    • Hemisphärischer Elektronenanalysator: Omicron EA125
    • Detektor: 5 channeltron

SI (in-operando)

  • Spektroskopisches Ellipsometer SER 801 (SENTECH Instruments GmbH)
  • 240 nm bis 1000 nm (UV-VIS)
  • Anordnung 70° zur Probenoberflächennormale
  • Sichtfensterschutz über pneumatische Blenden zur Vermeidung unerwünschter Beschichtungen
  • Software: SpectraRay/4

QMS (in-operando)

  • Quadrupol-Massenspektrometer HAL/3F 301 RC (Hiden Analytical)
  • Adaption am ALD-Reaktor über Blindflansch mit Blende (⌀=500mm) und differentielles Pumpen