Veröffentlichung in »Journal of Vacuum Science and Technology A« veröffentlicht
A. Mahmoodinezhad, C. Morales, F. Naumann, P. Plate, R. Meyer, C. Janowitz, K. Henkel, M. Kot, M. H. Zoellner, C. Wenger, J. I. Flege
Low-temperature atomic layer deposition of indium oxide thin films using trimethylindium and oxygen plasma
Journal of Vacuum Science and Technology A 39 (2021) 062406
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Dr.-Ing. Karsten Henkel
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Prof. Dr. rer. nat. habil. Ingo Flege
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